- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/28 - Masques à décalage de phase [PSM phase shift mask]; Substrats pour PSM; Leur préparation avec trois phases différentes ou plus sur le même PSM; Leur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/28
Brevets de cette classe: 17
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
3 |
Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 3891 |
3 |
SK Hynix Inc. | 11030 |
2 |
ULVAC Coating Corporation | 17 |
2 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
1 |
Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 27812 |
1 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5132 |
1 |
Eulitha AG | 30 |
1 |
Kioxia Corporation | 9847 |
1 |
Panasonic Semiconductor Solutions Co., Ltd. | 970 |
1 |
Shanghai Chuanxin Semiconductor Co., Ltd. | 5 |
1 |
Autres propriétaires | 0 |